| 1982年3月 |
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スピードファム株式会社の洗浄機部門として、洗浄装置の製造販売開始 |
| 1984年1月 |
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洗浄装置の製造販売会社として、スピードファムクリーンシステム株式会社設立 |
| 1984年12月 |
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磁気ディスク用スクラバ付洗浄装置の製造販売開始 |
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海外輸出（米国、欧州、アジア）開始 |
| 1985年8月 |
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スピードファム株式会社の洗浄事業部を、スピードファムクリーンシステム株式会社に統合 |
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スピードファム株式会社加工実験室内にクリーンルームと超純水装置を備えた 業界初の洗浄ラボを開設、洗浄プロセス開発と洗浄品質評価を始める |
| 1986年3月 |
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光ディスク洗浄装置の製造販売開始 |
| 1986年12月 |
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液晶基板用板硝子水平枚葉洗浄装置の製造販売開始 |
| 1987年8月 |
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フロン代替乾燥のための、温純水乾燥システムの開発に成功、
その応用実験開始 |
| 1988年9月 |
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温純水乾燥システム搭載洗浄装置の量産開始 |
| 1991年1月 |
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山形県天童市から、寒河江市中央工業団地に山形工場を移転、新設 |
| 1997年3月 |
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山形工場敷地内に、洗浄プロセス開発のためのR＆Dセンターを開設 |
| 1999年10月 |
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モジュラー型流水洗浄装置の量産開始 |
| 2002年1月 |
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PDP基板、TFT基板、大型サイズ用水平洗浄装置の製品化 |
| 2003年1月 |
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超音波併用両面同時スクラブ洗浄装置（DSS-320）の製品化 |
| 2003年11月 |
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NEO乾燥のインテグレート化 |
| 2004年2月 |
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大型マスク用コーティング装置の製品化 |
| 2004年5月 |
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小径（0.85″）ディスク用スクラブ洗浄装置の製品化 |
| 2006年2月 |
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山形工場の敷地内に組立工場を増設 |
| 2006年5月 |
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資本金を8,800万円に増資 |
| 2017年2月 |
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神奈川県綾瀬市大上の新社屋に本社移転 |
