新着情報

最新技術情報

最新技術や展示会など、洗浄業界の最新トピックをご紹介します。

	ライティングジャパン　次世代照明技術展に出展します
	2012-01-05
	この度弊社は、東京ビッグサイトで開催されます、第4回次世代照明技術展ライティングジャパンのスピードファムブースに、出展いたします。同時開催にインターネプコンジャパンなどがございます。是非ご来場頂きたく、ご案内申し上げます。皆様のお越しをお待ちしております。 **　記　** 開催日時　　2012年1月18～20日　10～18時出店場所　東京ビッグサイト　西展示棟　西L1-8ブース以上

	SEMICON JAPAN 2011に出展します
	2011-11-04
	このたび弊社では『セミコン・ジャパン　2011』のスピードファムブース内に出展することになりました。今回弊社のテ-マは、『太陽電池ウェハ-用全自動洗浄装置』当社独自のコンセプトにより開発した太陽電池ウェ-ハ専用の洗浄装置です。業界初の完全自動化洗浄装置で人手を介することなく、安定品質・量産を実現いたします。会期 : 2011年12月7日～9日会場 : 幕張メッセブース№ : 2D-801 皆様のお越しをお待ちしております。

	第4回国際太陽電池展に出展します
	2011-02-11
	この度、東京ビッグサイトにて3月2日水曜日から4日金曜日に開催されます、PV EXPO 2011 第4回国際太陽電池展　に、出展致します。弊社ブースは東館27-23です。太陽電池ウェーハの自動洗浄装置をご紹介申し上げます。その特色は; 1. ウェーハのセパレータへの自動投入=業界初 2. 破損したウェーハの分離機能搭載=業界初 3. 洗浄液の自動供給機能搭載 4. 剥離した研磨剤の除去が容易な構造 5. 最終リンスに、除去後の汚れの最付着を防止する流水槽を搭載=業界初+独自技術 6. 台車使用による、スライスウェーハ投入作業の簡素化です。どうか弊社ブースへお立ち寄りくださいませ。

	セミコンジャパン2010に出展します
	2010-11-20
	千葉県幕張にて開催される、半導体製造装置・部品材料の展示会 SEMICON Japan に出展しておりますスピードファム株式会社ブース内で、PV (太陽電池) ウェーハ用の自動洗浄装置およびサファイア・水晶ウェーハ等向け精密洗浄装置を紹介します。会期 : 2010年12月1日～3日会場 : 幕張メッセブース№ : 2D-801 ちなみに、今回のスピードファムブースの主な展示内容は以下の通りです。 1.シリコンウェーハに最適な研磨装置ラインナップ　　今日のプライムウェーハ平坦化に求められる生産性・品質ニーズに応える、両面ラップ装置、両面ポリッシュ装置、エッジポリッシュ装置の総合ソリューションを紹介します。 2.ドライエッチング装置 (DCP) 　　DCPはダウンストリームプラズマの気相化学エッチング反応により、非接触・無歪加工を可能にする、全く新しいタイプの数値制御ドライ平坦化装置です。プライムウェーハの平坦化の　　ほか、SOI・SOS・SOGウェーハのシリコン膜厚均一化等に対しても有効なプロセスを提供します。 3.研磨装置の実機ブース展示　　最新の極薄水晶向け研磨装置およびサファイア向け研磨装置を実機展示し、スピードファム装置による先進プロセスを提案します。 4.精密洗浄機　　PV (太陽電池) ウェーハ用の自動洗浄装置およびサファイア・水晶ウェーハ等向け精密洗浄装置を紹介します。 5.最先端の消耗副資材や新製品　　スピードファムは、消耗副資材や周辺機材の開発にも力点を置き、高効率・高品質な生産活動をトータルにサポートします。是非、ブースまでお立ち寄り下さいませ。

	スピードファムクリーンシステムに新しく精密溶接に特化したレーザ事業を開始しました。
	2010-03-27
	先般3月早々に開催の二次電池展にて、弊社ブースにお立ち寄り頂きまして、おりがとうございます。 2009年10月1日からスピードファムクリーンシステムに新しく精密溶接に特化したレーザ事業を始めまして、初めての実物展示と溶接の実演をさせていただきました。 ☆パルスYAGレーザ溶接・加工装置　　スピードファムクリーンシステムが提供します、パルスYAGレーザ溶接・加工装置は　　低出力からレーザ発振が安定するレーザ装置で精密溶接、微細接合に最も適した　　パルスYAGレーザ溶接・加工装置です。 ☆二次電池用溶接にキャパシタ用溶接と電池には欠かせないレーザ溶接シーンで　　活躍し、電子部品全般の溶接シーンで活躍を致しております ☆パルスYAGレーザ溶接・加工装置　ラインナップ　　　OLY-0310　30W機　二次冷却　空冷タイプ　　　OLY-0500　50W機　二次冷却　空冷タイプ　　　OLY-0800　80W機　二次冷却　水冷タイプ　　　OLY-1000　100W機二次冷却　水冷タイプ OLY-1500 150w機二次冷却　水冷タイプ OLY-3500 350w機二次冷却　水冷タイプ ※現在開発中の装置につきましては、随時途中経過を含め、最新情報に掲載致します

	国際二次電池展にYAGレーザ実機展示します
	2010-02-22
	来る3月3日から5日に、東京ビッグサイト東展示場で開催される、第1回国際二次電池展に出展します。テーマは、「精密洗浄とレーザ溶接のコラボレーション」です。 YAGレーザによる、リチウムイオン電池缶底溶接のデモ実演を予定しております。是非ご来場くださいませ。

	新年のご挨拶
	2010-01-01
	謹んで新年のご挨拶を申し上げます。旧年中御世話になりました皆様に、厚く御礼申し上げます。洗浄部門にレーザ部門を加えまして、はや3ヶ月経ちました。二次電池や燃料電池の製造工程などYAGレーザ溶接の前後に洗浄を必要とするケースも多いと思います。新しいスピードファムクリーンシステムをどうぞ宜しく御願いします。

	レーザ事業について
	2009-09-15
	2009年10月1日付にて、親会社であるOBARA株式会社のレーザ事業が、スピードファムクリーンシステム株式会社に譲渡されることとなりました。スピードファムグループとしましては、従来頂いていたご愛顧に一層お応えするべく、ニーズに合致した製品の開発と、充実したフィールドサービス体制の拡充に取り組む所存です。今後とも、倍旧のお引き立てを賜りますようお願い申し上げます。

	FC EXPO2007に出展いたしました。
	2007-02-13

	FC EXPO2007に出展いたします。
	2006-12-01
	第３回国際水素・燃料電池展に出展いたします会期：2007年2月7日(水)〜9日(金) 会場：東京ビッグサイト小間番号：東３ホール５−７

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